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GaN 工艺 MOS 制程及应用方案揭秘研讨会

2021-04-22 14:35:47

GaN 工艺 MOS 制程及应用方案揭秘研讨会

【 会议背景 】

       当前,在市场拉动和政府政策支持下,我国半导体集成电路产业持续保持高速增长,技术创新能力不断提高,骨干企业实力大幅增强,产业发展支撑能力显著提升。半导体集成电路产业发展已呈现出市场和技术共同驱动的特征。


        鉴于广阔市场前景,于 2021 年 5 月 27日乐发lv将在中国深圳召开“引爆消费电子市场:GaN 工艺 MOS 制程及应用方案揭秘研讨会暨時科首届良芯节”。

        本次会议以“研讨会交流+展览展示”为形式,就热点和焦点问题展开深入交流,围绕国内外产业发展趋势、产业生态、产业集群建设等主题建言献策,共同探讨现在与未来、挑战与机遇。

    

【会议主题】

GaN 工艺 MOS 制程及应用方案揭秘研讨会 暨時科首届良芯节

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【 特邀演讲嘉宾 】

半导体行业专家、集成电路专家、時科工程师

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【会议亮点】

乐发lv        1. 产业链各个环节的行业专家分享独到见解,解析市场趋势及机遇;

乐发lv        2. 面对面的交流机会,与行业专家共同探讨企业如何把握市场新机遇;

        3. 聚焦各式难题,研讨应对方案,以助企业在新竞争格 局中实现技术创新;

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【会议时间】2021 年 5 月 27 日13:00-17:00

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【会议地址】乐发lv深圳市 龙岗区 天安云谷一期 3栋 D座 3楼 国际会议厅

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【参会要求】快充类工程师!

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